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      • SPB5/plusRIE反應離子刻蝕機
        SPB5/plusRIE反應離子刻蝕機

        CIF 推出 RIE 反應離子刻蝕機,采用 RIE 反應離子誘導激發方式,實現對材料表面各向異性的微結構刻蝕。特別適合于大學、科研院所,微電子、半導體企業實驗室進行介質刻蝕、硅刻蝕、金屬刻蝕等方面研究。使用成本低,性價比高,易維護,處理快速高效。RIE反應離子刻蝕機適用于所有的基材及復雜的幾何構形進行 RIE 反應離子刻蝕。

        時間:2024-08-05型號:SPB5/plus訪問量:803
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