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      勻膠機

      簡要描述:Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態滴膠方式是在基片低速(通常在500轉/分左右)旋轉的同時進行滴膠,“動態"的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開,減少光刻膠的浪費,采用動態滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動態滴膠尤其適用,不會產生針孔。

      • 產品型號:CIF Spin Coater
      • 廠商性質:生產廠家
      • 更新時間:2024-07-03
      • 訪  問  量:3772

      詳細介紹

      品牌CIF價格區間10萬-30萬
      產地類別國產應用領域醫療衛生,環保,食品,化工,農業
        CIF-Spin Coater勻膠機進行滴膠就是簡單地把光刻膠滴注到靜止的基片表面的中心,滴膠量為1-10ml不等。滴膠的多少應根據光刻膠的粘度和基片的大小來確定。粘度比較高和/或基片比較大,往往需要滴較多的膠,以保證在高速旋轉階段整個基片上都涂到膠。動態滴膠方式是在基片低速(通常在500轉/分左右)旋轉的同時進行滴膠,“動態”的作用是讓光刻膠容易在基片上鋪展開,減少光刻膠的浪費,采用動態滴膠不需要很多光刻膠就能潤濕(鋪展覆蓋)整個基片表面。尤其是當光刻膠或基片本身潤濕性不好的情況下,動態滴膠尤其適用,不會產生針孔。
       

      Spin Coater

       

        滴膠之后,下一步是高速旋轉。使光刻膠層變薄達到要求的膜厚,這個階段的轉速一般在1500-6000轉/分,轉速的選定同樣要看光刻膠的性能(包括粘度,溶劑揮發速度,固體含量以及表面張力等)以及基片的大小??焖傩D的時間可以從10秒到幾分鐘。勻膠的轉速以及勻膠時間往往能決定膠膜的厚度。
        一般來說,勻膠轉速快,時間長,膜厚就薄。影響勻膠過程的可變因素很多,這些因素在勻膠時往往相互抵銷并趨于平衡。所以建議給予勻膠過程以足夠的時間,讓諸多影響因素達到平衡。
       
        Spin Coater勻膠機產品特點:
        1.采用閉環控制伺服電機,數字式增速信號反饋,速勻準確,壽命長,保證勻膠均勻。
        2.5寸全彩觸摸屏,智能程序化可編程操控顯示,標配10個勻膠梯度階段(速度和時間梯度設置),可選配10個可編程程序,每個程序下可設置10個勻膠梯度階段,多100個階段。
        3.內置水平校準裝置,大限度的保證旋涂均勻,可對大小不同規格的基片進行旋涂。
        4、多重安全保護
        電磁安全開關,蓋子打開卡盤停止,保證安全;蓋子自鎖功能,防止飛片蓋彈開傷人;雙重安全上蓋,聚四氟嵌鑲鋼化玻璃,避免單一玻璃或者亞克力上蓋飛片傷人,大限度保證實驗人員安全。
        5.一機兩用,根據不同樣品可選真空吸盤和非真空卡盤兩種旋涂模式。
        6.不銹鋼噴塑涂層旋涂殼體,PTFE旋涂腔體,聚丙烯(NPP-H)旋涂托盤,PTFE嵌鑲鋼化玻璃上蓋,耐酸堿防腐蝕,保證儀器在苛刻條件下仍能正常運行。
        7.勻膠機適用硅片、玻璃、石英、金屬、GaAs,GaN,InP 等多種材料。
       
        CIF-Spin Coater勻膠機技術參數:
       

      型號

      轉速(轉/分)

      轉速穩定度

      勻膠時間

      旋涂基片尺寸mm

      外型尺寸(LxWxH)mm

      SC1

      50-10000

      ±1%

      0-2000S

      圓片Φ5-Φ100,方片大100x100

      310x260x250

       

       

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